SysPro電力電子 技術前瞻快報
AI數據中心近芯供電的瓶頸:不在于VRM相數,而是如何把IVR、DTC和熱路一起推到芯片邊上?
SysPro電力電子技術-前瞻洞察 | 數據來源: Intel Foundry
先說一個結論:AI計算時代的先進供電,已經不能只按“12V到核心電壓的VRM效率”來理解。
GPU、HBM和大規模Chiplet把電流推到極高水平后,傳統外置VRM(電壓調節模塊)和板級橫向供電路徑會被布線路徑損耗、電阻壓降、瞬態電壓跌落、封裝熱阻和垂直高度一起限制。
所以,真正的問題不是“要不要把VRM靠近芯片”,而是:當電源轉換、儲能電容、磁件、封裝互連和冷卻結構都被推到芯片附近時,整個系統還能不能同時滿足效率、瞬態、熱、厚度、成本和可靠性。

圖片來源: Intel Foundry
?? SysPro備注:
這里我們要把AI供電看成一個封裝級系統工程:電流路徑越短,電氣性能越好;但電源器件越靠近計算芯片,熱和工藝約束也越硬。
一、這里我們想表達的核心點是什么?
這里我們想表達的核心點在于:AI供電的瓶頸正在從板級電源模塊遷移到封裝級電源網絡。外置多相VRM仍然重要,但它已經很難單獨承擔未來GPU/XPU在高電流、低電壓、強瞬態和高集成度下的全部壓力。
Intel Foundry的部分用MBVR(主板電壓調節模塊)橫向供電和垂直供電做了一個很清楚的對比:橫向供電的主要問題是布線路徑損耗;垂直供電可以縮短路徑,但會帶來系統垂直高度、復雜度和電流密度問題。
也就是說,往上堆相數或把VRM放得更近,并不會自動解決問題,它只是把瓶頸從PCB路徑轉移到封裝厚度、冷卻、無源件集成和可靠性上。

圖片來源: Intel Foundry | MBVR)橫向/垂直供電與E2E效率對比
這也是為什么高電壓IVR、高密度深溝槽電容、封裝內磁件、垂直供電和冷板會在同一份材料里反復出現?它們看似屬于不同技術棧,實際上都在服務同一個目標:把供電阻抗壓低,把瞬態響應做快,把大電流路徑縮短,同時不要讓熱失控。
二、趨勢/背景:AI功率正在把MBVR側向供電推到效率拐點
從趨勢上看,AI硬件的功耗增長不只是TDP(熱設計功耗)數字變大這么簡單。負載電壓下降、峰值電流上升、chiplet(芯粒)數量增加、HBM(高帶寬內存)容量和帶寬擴大之后,電源網絡承擔的壓力會以非線性方式增加。尤其是在低壓大電流場景下,哪怕路徑電阻只增加一點點,I2R損耗也會被電流平方項放大。
這就是我們之前反復強調IR壓降、封裝電阻、PCB電阻和PDN阻抗(電源分配網絡阻抗)的原因。
外置VRM在高功率下仍然可以做高效率,但從VRM到芯片負載之間的路徑損耗會越來越難忽略。對于AI加速器來說,電源不是“送到板上”就結束了,真正麻煩的是最后幾厘米甚至最后幾毫米。

圖片來源:AMD | 供電挑戰:傳統VRM、PCB、封裝電阻與IR壓降問題
AMD的部分,也把這個問題放到了系統級功耗拆分里。
計算主要發生在GPU,但整機系統并不是只有GPU在耗電,CPU、網絡、數據中心輔助功耗以及其他電路都會分走功耗預算。目標不是單點把某個電源模塊效率做高,而是在系統層面最大化性能、最小化總功耗。

圖片來源:AMD | 數據中心功耗:系統級功耗拆分與GPU/HBM占比
三、五家VDP架構邏輯:真正的設計對象是PDN阻抗、轉換級數和熱路徑(EE星球節選)
下面我們來看下這組高壓IVR概念圖。
這個章節聚焦的核心問題是:為什么AI供電不能只靠外置VRM繼續堆相數,而必須把PDN阻抗、轉換級位置和封裝熱路徑放在一起設計?

圖片來源:Intel Foundry | 高壓IVR概念:高壓IVR、eDTC、CoaxMIL與封裝內堆疊無源件
星球補充看點
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[知識星球發布]
四、核心矛盾:IVR要靠近芯片,但磁件、電容、熱和可靠性不能一起消失(EE星球節選)
下面我們來看下垂直供電模塊的結構。
這個章節回答的是一個更落地的問題:當IVR真的靠近芯片以后,電源板、封裝基板、冷板和控制接口到底如何重新分工?

圖片來源:ASE | 垂直供電模塊:VRM核心供電區、VRM輸入輸出供電區、PDB與冷板協同結構
星球補充看點
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五、制造/驗證難點:從powerSiP到CoWoS,關鍵是把無源件做進封裝生態(EE星球節選)
下面我們來看下電感和電容進入封裝的幾條路線。
這個章節聚焦的是制造和驗證難點:無源件越靠近芯片,電氣路徑越短,但材料、工藝、厚度、熱和可靠性也會被同時綁定。

圖片來源:Qualcomm | 電感與電容集成方案:TFI、MAG-L、DTC、HD-DTC集成路徑
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六、給我們的啟示:AI供電下一戰是封裝級電源網絡,不是單顆VRM效率(EE星球節選)
下面我們來看下最后這張關于DTC(深溝槽電容)和IVR的系統收益圖。這個章節要回答的是:為什么AI供電下一戰不是單顆電源模塊效率,而是封裝級PDN閉環能力?

圖片來源:AMD | 先進封裝是應對AI供電挑戰的核心:封裝內IVR、集成無源與熱管理
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圖片來源:TSMC | 用于降低阻抗和改善供電的DTC與IVR:PDN阻抗下降與多IVR供電可行性
?? SysPro總結
AI算力供電的真瓶頸,已經不是再堆更多外置VRM相數,而是在GPU/ HBM/ chiplet持續擴展后,把IVR、DTC/eDTC、封裝基板、無源件集成和冷卻路徑放到同一個系統里閉環。
真正能拉開差距的,是誰能在低PDN阻抗、短電流路徑、高瞬態響應、可控熱設計和可量產封裝工藝之間同時成立。

本篇為主題《AI先進電源供電_封裝級IVR、DTC/eDTC與CoWoS電源完整性》學習總結,完整參考資料與擴展筆記已整理在「SysPro電力電子技術」知識星球中。
完整內容聚焦:AI供電、MBVR(主板電壓調節模塊)、垂直供電、IVR、powerSiP(電源系統級封裝)、CoWoS、封裝基板、集成無源件、PDN阻抗、冷板和液冷散熱


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SysPro電力電子技術-前瞻洞察 · 16個系列
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