碳化硅外延:
功率半導體產(chǎn)業(yè)鏈的“價值高地
碳化硅外延片,是指在碳化硅單晶襯底表面,通過外延工藝生長出一層晶格結(jié)構(gòu)與襯底一致、高純度、低缺陷、可精確控制摻雜的單晶薄膜的碳化硅晶圓。該產(chǎn)品位于碳化硅產(chǎn)業(yè)鏈的“襯底—外延—器件—模塊”中游環(huán)節(jié)。


碳化硅外延片
從襯底到器件的“關(guān)鍵一躍”
碳化硅外延片存在的根本原因,在于碳化硅功率器件無法直接在單晶襯底上制造。 一方面,襯底自身存在各種生長缺陷,無法達到直接制作碳化硅器件的要求;另一方面,襯底制作工藝很難精確控制摻雜濃度。外延生長技術(shù)可以改善襯底缺陷,避免對器件造成致命性影響,同時也可以精確控制摻雜濃度、提升摻雜濃度均勻性。
所有的碳化硅功率器件,都是制作在外延層里面的。 器件制作完成后,絕大部分情況下會將襯底減薄甚至磨掉,以消除襯底帶來的電阻和熱阻。對于最終的碳化硅功率器件來說,耐壓能力、開關(guān)效率、能量損耗等核心性能,都是由外延層決定的。

按晶圓尺寸劃分,碳化硅外延片主要分為4英寸、6英寸和8英寸三類。6英寸仍是當前主力量產(chǎn)平臺,產(chǎn)業(yè)鏈相對成熟,是現(xiàn)階段市場核心規(guī)格。 8英寸代表大尺寸化與降本升級方向,正在加速導入,是未來增長主線。4英寸主要用于研發(fā)、小批量和部分存量應(yīng)用,市場占比逐步收縮。
從下游器件電壓等級來看,1200-3300V SiC器件是當前最核心的應(yīng)用市場,也是主要增量來源,覆蓋新能源汽車主驅(qū)逆變器、光伏逆變器、儲能變流器、工業(yè)驅(qū)動等場景。600-1200V SiC器件主要應(yīng)用于車載OBC、DC/DC、充電設(shè)施和工業(yè)電源,規(guī)模持續(xù)增長但占比相對溫和。3300V以上SiC器件基數(shù)較小,但對厚外延和高可靠性要求更高,主要面向軌道交通、智能電網(wǎng)和高壓工業(yè)、特種電力電子等領(lǐng)域。 應(yīng)用演進趨勢方面,汽車電動化仍是核心需求引擎,能源與工業(yè)場景正成為重要新增量,高電壓、高效率、高可靠性需求推動外延片持續(xù)升級。

外延的核心價值
為什么它是產(chǎn)業(yè)鏈的關(guān)鍵環(huán)節(jié)
碳化硅外延片是制作功率器件的基石,也是器件發(fā)揮效能的核心。
外延層承擔三個核心功能:通過可控摻雜形成器件的導電溝道或漂移區(qū);通過厚度與摻雜濃度的協(xié)同設(shè)計承擔阻斷電壓;提供高質(zhì)量、低缺陷密度的表面,確保后續(xù)工藝中柵氧化層、歐姆接觸等關(guān)鍵界面的可靠性。
外延層的質(zhì)量直接影響器件的耐壓等級、導通電阻、漏電流、開關(guān)損耗、良率和長期可靠性。碳化硅外延片的關(guān)鍵控制指標包括外延層厚度、摻雜濃度、厚度均勻性、摻雜均勻性、表面缺陷、位錯缺陷和背面潔凈度等。

目前車規(guī)1200V外延層的價值已超過襯底,固態(tài)變壓器3300V外延層的價值更是襯底的三倍以上。
不同電壓等級對厚度要求差異顯著:600V級器件需要約5-8μm;1200V車用器件需要10-15μm;1500V光伏逆變器用器件需要13-15μm;3300V工業(yè)、電網(wǎng)用高端器件需要30-40μm;10000V以上的超高壓器件則需要100-150μm以上。在同一規(guī)格的襯底上,外延層越厚、結(jié)構(gòu)越復(fù)雜,對應(yīng)的商業(yè)價值和技術(shù)門檻越高。
高壓化浪潮
外延價值提升的核心驅(qū)動力
碳化硅功率器件向高壓方向演進,背后有一個清晰的物理邏輯:P = V × I。對于同樣的功率,電壓提高,電流就能降低;而能量損耗等于電流的平方乘以電阻(I2R),電流越小,損耗大幅下降。
這一基本原理驅(qū)動著新能源汽車從400V升級到800V乃至1000V,光伏風電并網(wǎng)器件從400V提升至1700V甚至2000V,AI數(shù)據(jù)中心和電網(wǎng)推動高壓固態(tài)變壓器應(yīng)用。外延層厚度直接決定器件能承受的電壓上限,因此高壓化趨勢持續(xù)推高對外延環(huán)節(jié)的技術(shù)要求與價值量。

外延環(huán)節(jié)的技術(shù)壁壘同樣不容忽視。厚外延不僅要厚度達標,還要在大厚度下保證低缺陷和高均勻性。外延生長對缺陷控制要求極高,良率直接決定企業(yè)盈利水平。行業(yè)普遍存在“設(shè)備易得、良率難求”的現(xiàn)象。據(jù)灼識咨詢數(shù)據(jù),2024年全球前五大碳化硅外延代工企業(yè)合計占據(jù)93.4%的市場份額。
百億美元賽道
從13億到109億的增長曲線
據(jù)QYResearch調(diào)研,2025年全球碳化硅外延片市場規(guī)模約為13.05億美元,預(yù)計2032年將達到109.53億美元,2026-2032期間年復(fù)合增長率為37.6%。 這一增速在半導體材料細分領(lǐng)域中處于較高水平。
從區(qū)域結(jié)構(gòu)看,中國是全球最大的碳化硅外延片生產(chǎn)地區(qū),占有接近50%的市場份額。中國企業(yè)在全球?qū)I(yè)外延片外供市場中的影響力持續(xù)增強,瀚天天成、天域股份、普興電子等廠商正在加快產(chǎn)能建設(shè)。

全球碳化硅外延片市場呈現(xiàn)“垂直一體化IDM廠商與專業(yè)外延片供應(yīng)商并存”的競爭結(jié)構(gòu)。Wolfspeed、意法半導體、ROHM通過襯底、外延、器件和模塊一體化布局強化供應(yīng)保障;Resonac、瀚天天成、天域股份等企業(yè)重點參與外延片外供市場。

行業(yè)趨勢
三個確定性方向
碳化硅外延片行業(yè)正呈現(xiàn)三個明確趨勢:
尺寸升級加速。 6英寸仍是主流,但8英寸正由技術(shù)驗證逐步進入產(chǎn)業(yè)化階段。Wolfspeed已全面聚焦8英寸碳化硅規(guī)模化生產(chǎn)。意法半導體持續(xù)推進200mm襯底、外延和晶圓制造一體化布局。
需求多元化。 碳化硅外延片市場增長主要受新能源汽車、充電基礎(chǔ)設(shè)施、光伏逆變器、儲能系統(tǒng)、軌道交通、智能電網(wǎng)、工業(yè)電源和高效數(shù)據(jù)中心等應(yīng)用拉動。隨著功率器件從硅基IGBT向SiC MOSFET升級,下游對高耐壓、低損耗、高頻化、小型化和高溫穩(wěn)定運行的需求持續(xù)增強。
競爭重點轉(zhuǎn)移。 行業(yè)競爭正由產(chǎn)能規(guī)模轉(zhuǎn)向良率、成本、認證和供應(yīng)鏈整合能力的競爭。產(chǎn)品正向更高一致性、更低缺陷密度、更大尺寸和更高電壓平臺發(fā)展。
長期來看,碳化硅外延片行業(yè)將保持較高出貨增速,但企業(yè)收入、利潤及現(xiàn)金流表現(xiàn)將進一步分化。能夠穩(wěn)定實現(xiàn)低缺陷、高良率和規(guī)模化交付的廠商,更有可能在下一輪行業(yè)整合中擴大市場份額。
信息來源:財聯(lián)社、QYResearch半導體行業(yè)深度調(diào)研
注:本文綜合自網(wǎng)絡(luò)公開信息,僅供行業(yè)交流與科普參考。如因信息更新或理解偏差存在不準確之處,歡迎聯(lián)系我們指正。本文不對內(nèi)容完整性或時效性作任何保證,也不構(gòu)成任何投資或商業(yè)決策建議,不對任何后果承擔責任。感謝您的理解與支持。
