日前ASML在財報會議上出乎意料地宣布了一個好消息——Intel的18A工藝已經率先量產了High NA EUV光刻工藝，這還是該技術的全球首次。
Intel確實是全球最早購買High NA EUV光刻機的，但Intel之前的路線圖中，只有到14A工藝節點才會應用該技術，后者2028年才會試產，2029年才會量產。
如今High NA EUV的量產提前了三年之多，確實讓人想不到，雖然該工藝只是在18A工藝的部分層中量產，還不會取代當前的low NA EUV光刻機。
那Intel率先量產High NA EUV技術有什么意義？還真不是純粹作秀，Intel公布的信息顯示，High NA EUV光刻層的成本比當前的EUV成本還低，后者需要40多個步驟才能完成的曝光過程只需要用High NA EUV光刻機1次就能完成。
再往別的方面來看，Intel在18A工藝上就率先使用High NA EUV工藝生產，可以為下一代的14A工藝排雷，提前部署可以積累經驗，到了14A工藝大規模量產High NA EUV工藝的時候就能快速產能爬坡。
14A工藝對Intel來說可能比18A工藝還要重要，不光是技術迭代，14A是Intel爭取蘋果、谷歌、微軟、亞馬遜、Meta等公司代工訂單的核心一戰，這一代再拿不下大客戶的訂單，Intel在代工市場真的沒什么機會了，哪怕美國政府再強制輸血也沒用。
此外，在High NA EUV工藝上，Intel也能完成對臺積電的一次超越——過去十多年中Intel為什么在先進工藝上落后，很多人不知道的是Intel之前對EUV量產的進度非常保守，一直希望用DUV+SAQP多重圖案之類的技術繼續迭代，結果被臺積電用率先量產EUV工藝徹底趕超了。
如今風水輪流轉，臺積電對High NA EUV光刻機意興闌珊，A12工藝之前都不會用，也就是2030年之前都不會量產High NA EUV工藝，而Intel這波量產直接提前了4年，實現了一次對臺積電的技術領先。
至于雙方這次押注到底誰能笑到最后，現在說還為時過早，等著看吧。
這種技術領先的戲劇性反轉，讓人不禁想起英特爾在過往競爭中的類似境遇——彼時他們手握制程優勢，卻因對新興勢力的誤判而付出代價。如今再次站上技術制高點，能否將先發優勢轉化為持續勝勢，或許可以從公司曾經的教訓中窺見一二。就在近期，英特爾前CEO帕特·基爾辛格便公開了一段塵封的往事。
英特爾前CEO帕特·基爾辛格在近期的公開分享中坦言，在英特爾主導全球半導體行業的黃金時期，公司上下曾經對英偉達的GPU產品完全不屑一顧，完全沒有料到后者會成長為后來攪動整個行業格局的算力巨頭。
當聊到偉大企業家如何通過長期投入完成行業價值積累這個話題時，基爾辛格主動提起了英特爾早年看待英偉達的特殊心態，說出了當年行業頭部廠商普遍存在的傲慢偏差。
他回憶當時的行業狀態稱，那個年代黃仁勛確實只是在埋頭打造面向高性能計算場景的專用設備。
在英特爾CPU業務最輝煌的階段，整個公司都沒把英偉達放在眼里，所有人都覺得GPU不過就是游戲發燒友才會追捧的小眾配件，根本不可能成為支撐產業發展的核心算力基座。
后續整個行業的技術走向很快超出了英特爾的預判，基爾辛格也在反思中提到，后來英偉達沒有局限于GPU硬件本身的迭代，而是花費十數年時間慢慢圍繞硬件搭建出了CUDA、SIMT等一整套完整的底層軟件生態體系。
“每一代產品、每一層技術棧都在持續打磨進化，這種堅持長期改進產品的發展路徑，和蘋果創始人喬布斯的做事風格有著極高的相似度。”這位前高管說道。
